成長因子投与メソッド

当店で行う「成長因子投与メソッド」とは、

頭皮に直接、電気穿孔法と呼ばれる手法で5種類のGF(グロースファクター)、キャピキシル、機能性ペプチド、

動植物エキス、プラセンタなど発毛に有効な成分を

直接注入することで発毛効果を高める事を可能にするメソッドです。


電気穿孔法は針のない注射器とも呼ばれており、針を使わないため痛みはありません。

「成長因子投与メソッド」の注入・導入成分



当店の成長因子投与メソッドでは主に下記成分をオリジナル配合し使用しています



・成長因子複合体(VEGF、α-FGF、IGF-1、KGF、チモシンβ4)

・銅ペプチド

・キャピキシル

・プラセンタ

・3重らせんコラーゲン

・センブリエキス

・オタネニンジンエキス

・ゴボウ根エキス

・ニンニクエキス  

など


※アルコール、パラベン、香料、着色料等の添加物は使用していません。




・VEGF

断絶した血管の再結成、老化した血管内皮細胞を回復


・α-FGF

血管新生作用、白髪の発生を抑制する


・IGF-1

毛母細胞の増殖を促進し毛根を活性化。髪を太くする


・KGF

毛乳頭でも生産されているグロースファクター。毛髪を成長させる


・チモシンβ4

髪の基となるTA細胞を増殖させる。頭皮の血流改善


・銅ペプチド

頭皮の血行促進、毛根に活力を与える。脱毛、薄毛を防ぐ


・キャピキシル

ミノキシジルの3倍に相当する育毛効果

脱毛を抑えつつ、育毛環境を著しく向上させる


・プラセンタ

細胞の活性化、血行促進、代謝促進


・3重らせんコラーゲン

頭皮の保湿効果


・センブリエキス

血行促進、細胞分裂の活性化による発毛促進


・オタネニンジンエキス

血流促進、頭皮の老化防止


・ゴボウ根エキス

保湿作用、脱毛やフケ予防作用


・ニンニクエキス  

新陳代謝促進作用




電気穿孔法


当店で施術している「成長因子投与メソッド」の原理である

電気穿孔法(electroporation : エレクトロポレーション)とは、

細胞膜に0.5~1Vという短い電気パルスを流し、その刺激により一時的に細胞間膜に微小な穴を空け、

その穴を通じてさまざまな薬剤やDNAを細胞内部や皮下に輸送・導入する技術です。


この電気穿孔法は従来の物質輸送・導入法であるイオン導入や超音波伝導と異なり、

イオン化していない物質であれば比較的分子量の大きな物質の輸送・導入が可能であるため、

現在では遺伝子治療や、麻酔科での表面麻酔、そして美容医療等に広く応用されています。


電気穿孔法(エレクトロポレーション)は従来のイオン導入の約18倍の薬剤導入量を可能にし、

皮下の浅い所であれば、目的の薬剤を約90%導入することが可能です。

成長因子投与メソッドは、この電気穿孔法を利用して頭皮の毛根直下に成長因子複合体、

キャピキシル、プラセンタなどの発毛に有効な成分を大量に、

かつ痛みを伴わず効率的に導入するメソッドです。



最初の2ヶ月は2週間に1度、その後月に1度の施術になります。

効果が出てきた場合、その後もメンテナンスとして 2~3か月に1度の施術が望ましいです。

施術を受けられる際の注意点


・頭皮に明らかな湿疹・発赤などの炎症がある場合は施術できません。

・機器の特質により、ペースメーカー、金の糸などの金属類が体内にあるお客様の施術は出来ません。

また、施術時には貴金属類などを外していただく必要があります。

・内服薬との併用が効果的です。



成長因子投与メソッド

1回約40分 ¥8,000-(税抜)

スパシャンプー、ヘアドライ込